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聚焦于高純氣體,穩定同位素,金屬化合物和高純化學品等化工新材料的供應和銷售
Hydrogen Chloride - 氯化氫 - ( HCL )
氯化氫是一種無色,腐蝕,有毒,不易燃,有刺激性氣味的氣體。對粘膜有很強刺激性。氯化氫比空氣重,在潮濕空氣中形成濃密煙霧,并對水具有極大的親和力。在其自身蒸汽壓力下被作為液化性氣體運輸。
規格 | ||
純度 , % | 99.9 | 99.999 |
氧氣 | ≤10 ppmv | ≤ 0.5 ppmv |
氮氣 | ≤10.0? ppmv | ≤ 2? ppmv |
二氧化碳 | ≤5.0 ppmv? | ≤2.0 ppmv? |
一氧化碳 | ≤5.0 ppmv? | ≤1.0 ppmv |
甲烷 | ≤5.0 ppmv? | ≤0.3 ppmv |
水分 | ≤2.0 ppmv? | ≤1.0 ppmv |
鐵離子 | ≤1.0? | |
運輸 | ||
DOT 運輸名稱 | 氯化氫,無水 | |
DOT 分類 | 2.3 | |
DOT 標簽 | ?毒氣,吸入有害,腐蝕性氣體 | |
UN NO. | UN 1050 | |
CAS No. | 7647-01-0 | |
CGA/DISS/JIS/BS341/DIN477 | 330/634/W26-14R/NO.6/NO.8 | |
運輸狀態 | 液化性氣體 | |
技術信息 | ||
鋼瓶狀況 @ 21.1°C? | 液體 | |
在空氣中的燃燒極限 | 不可燃 | |
自然溫度 (°C ) | - | |
分子量 (g/mol) | 36.461 | |
比重 ( 空氣 =1) | 1.19 | |
臨界溫度 ( °C ) | 51.54 | |
臨界溫度 ( psig ) | 1185 | |
應用 | ||
1. 在電子工業中, 選擇性蝕刻。 2. 在半導體制造:在外延沉積前用于蝕刻天然氧化物;CVD 反應釜清洗, CVD 氧化物除水。 | ||