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聚焦于高純氣體，穩定同位素，金屬化合物和高純化學品等化工新材料的供應和銷售
Nitrogen Trifluoride - 三氟化氮 - ( NF3 )
三氟化氮_WECHEM_SH_MSDS.pdf 資料下載三氟化氮是一種無色的，穩定的，氧化性有毒且帶有發霉氣味的氣體。作為壓縮性氣體運輸。
| 規格 | |
| 純度，% | 99.99 |
| 氧氣 | ≤3.0 ppmv |
| 氮氣 | ≤5.0 ppmv |
| 二氧化碳 | ≤1.0 ppmv |
| 一氧化碳 | ≤1.0 ppmv |
| 甲烷 | ≤1.0 ppmv |
| 水分 | ≤1.0 ppmv |
| 四氟化碳 | ≤1.0 ppmv |
| 氧化亞氮 | ≤2.0 ppmv |
| 六氟化硫 | ≤1.0 ppmv |
| 氫氟酸 | ≤1.0 ppmv |
| 運輸 | |
| DOT 運輸名稱 | 三氟化氮 |
| DOT 分類 | 2.3 |
| DOT 標簽 | 不可燃氣體，氧化性 |
| UN NO. | UN 2451 |
| CAS No. | 7783-54-2 |
| DISS/JIS/DIN477 | 640/W22-14L/NO.6 |
| 運輸狀態 | 壓縮性氣體 |
| 技術信息 | |
| 鋼瓶狀況 @ 21.1°C? | 氣體 |
| 在空氣中的燃燒極限 | 不可燃 |
| 自然溫度 (°C ) | - |
| 分子量 (g/mol) | 71 |
| 比重 ( 空氣 =1) | 2.46 |
| 臨界溫度 ( °C ) | -39.15 |
| 臨界溫度 ( psig ) | 632.19 |
| 應用 | |
| ?用于半導體、TFT-LCD?以及光伏電池制造過程中的化學氣相沉積（CVD )?工程，是用于去除制程室（?Chamber?）?內壁上的殘留物質的特種氣體。 | |