1.氮氣-N2,純度要求>99.999%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、零點氣、平衡氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延、擴散、化學(xué)氣相淀積、離子注入、等離子干刻、光刻、退火、搭接、燒結(jié)等工序；電器、食品包裝、化學(xué)等工業(yè)也要用氮氣。

2.氧氣-O2,>99.995%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、零點氣；還可用于醫(yī)療氣；在半導(dǎo)體器件制備工藝中用于熱氧化、擴散、化學(xué)氣相淀積、等離子干刻等工序；以及用于光導(dǎo)纖維的制備。

3.氬氣-Ar,>99.999,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、零點氣、平衡氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中晶體生長、熱氧化、外延、擴散、氮化、噴射、等離子干刻、載流、退火、搭接、燒結(jié)等工序；特種混合氣與工業(yè)混合氣也使用氫。

4.氫氣-H2,>99.999%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、零點氣、平衡氣、校正氣、在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣；在半導(dǎo)體器件制備工藝中用于晶休生長、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結(jié)等工序；在化學(xué)、冶金等工業(yè)中也有用。

5.氦氣-He,>99.999%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、零點氣、平衡氣、校正氣、醫(yī)療氣；于半導(dǎo)體器件制備工藝中晶體生長、等離子干刻、載流等工序；另外,特種混合氣與工業(yè)混合氣也常用。

6.氯氣-Cl2,>99.96%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中晶體生長、等離子干刻、熱氧化等工序；另外,用于水凈化、紙漿與紡織品的漂白、下業(yè)廢品、污水、游泳池的衛(wèi)生處理；制備許多化學(xué)產(chǎn)品。

7.氟氣-F2,>98%,用于半導(dǎo)體器件制備工藝中等離子干刻；另外,用于制備六氟化鈾、六氟化硫、三氟化硼和金屬氟化物等。

8.氨氣-NH3,>99.995%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、在線儀表標(biāo)準(zhǔn)氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中氮化工序；另外,用于制冷、化肥、石油、采礦、橡膠等工業(yè)。

9.氯化氫-HCI,>99.995%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延、熱氧化、擴散等工序；另外,用于橡膠氯氫化反應(yīng)中的化學(xué)中間體、生產(chǎn)乙烯基和烷基氯化物時起氧氯化作用。

10.一氧化氮-NO,>99%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中化學(xué)氣相淀積主序；制備監(jiān)控大氣污染的標(biāo)準(zhǔn)混合氣。

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