11.二氧化碳-CO2,>99.99%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、在線儀表標(biāo)推氣、校正氣；于半導(dǎo)體器件制備工藝中氧化、載流工序警另外,還用于特種混合氣、發(fā)電、氣體置換處理、殺菌氣體稀釋劑、滅火劑、食品冷凍、金屬冷處理、飲料充氣、煙霧噴射劑、食品貯存保護氣等。

12.氧化亞氮-N2O,(即笑氣),>99.999%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、醫(yī)療氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中化學(xué)氣相淀積、醫(yī)月麻醉劑、煙霧噴射劑、真空和帶壓檢漏；紅外光譜分析儀等也用。

13.硫化氫-H2S,>99.999%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中等離子干刻,化學(xué)工業(yè)中用于制備硫化物,如硫化鈉,硫化有機物；用作溶劑；實驗室定量分析用。

14.四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作標(biāo)準(zhǔn)氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延丫、化學(xué)氣相淀積等工序；另外,用作溶劑、有機物的氯化劑、香料的浸出劑、纖維的脫脂劑、滅火劑、分析試劑、制備氯仿和藥物等。

15.氰化氫-HCN,>99.9,用于半導(dǎo)體器件制備工藝中等離子干刻工序；制備氫氰酸溶液,金屬氰化物、氰氯化物；也用于制備丙烯睛和丙烯衍生物的合成中間體。

16.碳酰氟-COF2,>99.99%,用于半尋體器件制備工藝中等離子干刻工序；另外,用作氟化劑。

17.碳酰硫-COS,>99.99%,用作校正氣；用于半導(dǎo)體器件制備工藝中離子注入工序；也用于有些羧基、硫代酸、硫代碳酸鹽和噻唑的合成。

18.碘化氫-HI,>99.95%,用于半導(dǎo)體器件制備工藝中離子注入工序；還用于氫碘酸溶液制備。

19.嗅化氫-HBr,>99.9%,用于半導(dǎo)體制備工藝中等離子干刻工序；用作還原劑,制備有機及無機澳化合物。

20.硅烷-SiH4,>99.999%,電阻率>100Ω/cm2,用于半導(dǎo)體器件制備工藝中外延、化學(xué)氣相淀積等工序。

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